En los últimos años, un buen número de rectificado de precisión progreso de la tecnología, especialmente para la fabricación de tecnología de lapeado sustrato de silicio de gran diámetro LSI ha mejorado mucho. Los requisitos de calidad de la superficie sustrato de silicio son muy estrictas, no sólo requiere una pequeña rugosidad de la superficie, sin rasguños, buena llanura, y no requiere la capa afectada superficie. Ahora nuestro país ha sido capaz de producir sustrato de silicio de 8 pulgadas, estamos desarrollando y procesamiento de sustrato de silicio de 10 pulgadas, pero se basan en la introducción de la tecnología extranjera y el uso de equipos importados. Necesidad urgente de la investigación y el desarrollo de la tecnología de fabricación sustrato de silicio 10 a 12 pulgadas y equipo de producción independiente.